- Offizieller Beitrag
Das Fraunhofer IWS hat ein neues Verfahren zur chemischen Dampfphasenabscheidung (AP-CVD) von Oxid-Schichten bei Atmosphärendruck und niedriger Temperatur entwickelt. Es ermöglicht eine kontinuierliche Großflächenbeschichtung von Bändern ebenso wie von ebenen