Atmosphärendruck-Plasmaverfahren zur Kostenreduzierung in der Silizium-Photovoltaik -

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Im Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS in Dresden werden aktuell Plasmaprozesse zum Ätzen und Beschichten entwickelt, die nicht im Vakuum sondern bei Atmosphärendruck ablaufen. Ziel der Entwicklungen ist es,